Résultats de la recherche
Pour les articles homonymes, voir CVD. Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous...6 kio (769 mots) - 4 janvier 2024 à 13:25- Pour les articles homonymes, voir PLD. Cet article est une ébauche concernant les techniques, les sciences appliquées ou la technologie. Vous pouvez partager...5 kio (739 mots) - 29 août 2023 à 10:24
Pour les articles homonymes, voir Pulvérisation. Cet article ne cite pas suffisamment ses sources (janvier 2010). Si vous disposez d'ouvrages ou d'articles...26 kio (3 519 mots) - 23 novembre 2022 à 21:48
L'épitaxie par jets moléculaires (ou MBE pour Molecular Beam Epitaxy) est une technique consistant à envoyer un ou plusieurs jets moléculaires vers un...8 kio (912 mots) - 16 février 2024 à 17:19- L'épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (EPVOM, aussi connue sous les acronymes anglophones MOVPE — metalorganic vapor phase epitaxy ou MOCVD...4 kio (512 mots) - 19 septembre 2023 à 21:09
Pour les articles homonymes, voir PVD. Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l'anglais physical vapor deposition) est un ensemble de méthodes...2 kio (179 mots) - 4 janvier 2024 à 13:27
Pour les articles homonymes, voir Évaporation (homonymie). Certaines informations figurant dans cet article ou cette section devraient être mieux reliées...5 kio (581 mots) - 30 mars 2024 à 20:21
Cet article ne cite pas suffisamment ses sources (août 2019). Si vous disposez d'ouvrages ou d'articles de référence ou si vous connaissez des sites web...9 kio (1 292 mots) - 6 août 2024 à 16:47
Pour les articles homonymes, voir ALD. L’atomic layer deposition (ALD) est un procédé de dépôt de couches minces atomiques. Le principe consiste à exposer...3 kio (335 mots) - 18 février 2024 à 08:56
Le dépôt sous vide est une technique de fabrication de couche mince : on cherche à déposer une couche de métal (la plupart du temps) sur une lame de substrat...5 kio (654 mots) - 25 avril 2023 à 00:13
L’évaporation par faisceau d’électrons (aussi évaporation par faisceau électronique ; en anglais : Electron-beam physical vapor deposition / EBPVD, aussi...15 kio (1 678 mots) - 4 octobre 2023 à 04:58
Cet article est orphelin. Moins de trois articles lui sont liés (mai 2022). Vous pouvez aider en ajoutant des liens vers [[Dépôt en phase vapeur assisté...10 kio (1 272 mots) - 30 mars 2024 à 17:40
Le procédé de Lely est une technologie de croissance cristalline utilisée pour produire des cristaux de carbure de silicium pour l'industrie des semi-conducteurs...3 kio (298 mots) - 10 janvier 2024 à 20:21
