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*[[豊田章男]]、能登博則、高山干城、近藤政彰
*[[豊田章男]]、能登博則、高山干城、近藤政彰
**受賞理由:トヨタフューエルセルシステムTFCSの開発
**受賞理由:トヨタフューエルセルシステムTFCSの開発
*倉井敏磨、加藤宣之、西村喜男、福島隆正
**受賞理由:高屈折率・低複屈折特殊ポリカーボネート樹脂の開発


=== 市村学術賞===
=== 市村学術賞===

2017年3月18日 (土) 15:27時点における版

市村賞(いちむらしょう)は、企業集団であるリコー三愛グループの創始者として知られる実業家市村清(1900〜1968)の発案により、財団法人新技術開発財団が主宰する賞である。科学技術の進歩とその果実としての産業の発展を対象として、産業分野、学術分野で多大の貢献を為した個人またはグループを表彰する。第22回より産業、学術でそれぞれ「市村産業賞」「市村学術賞」としているが、市村賞の名称で広く知られている。

概説

市村は産業の国際競争における技術革新の重要性を説き、国内産業の競争力強化のために研究開発を推進することを目的とした財団法人の設立を発案する。財団法人新技術開発財団は1968年12月12日に設立が認可され、直後に亡くなった市村の遺産である有価証券30億円相当(当時)を基に発足する。

主宰者である財団の設立趣旨から、日本国内の産業力強化に資する観点が重視されていることが特徴である。

第1回(1969年)から第45回(2013年)までの間に、本賞19件、特別賞3件、功績賞(奨励賞)176件、貢献賞(アイデア賞)384件、合計582件が贈呈されている[1]

賞の種類

市村産業賞

優れた国産技術を開発することで、産業分野の発展に貢献・功績のあった技術研究者またはグループに授与する。本賞授与の場合は事業経営者とともに表彰する。ただし薬物およびソフトのみのものを除く。

市村産業賞
賞の種類 件数 副賞
本賞 原則1件 賞金(2000万円)、記念碑
功績賞 原則2件 賞金(500万円)、記念碑
貢献賞 原則5件 賞金(300万円)、記念碑

受賞候補は主宰者が関係機関に推薦を依頼するとともに、広く一般からも自薦・他薦を受け付ける。

本賞受賞者
  • 安得三、井本商三、谷包和、塚原重美
    • 受賞理由:新規多価イオン伝導性固体の創成と環境汚染ガスセンサへの実用化
  • 立石一真、山本通隆、水田幸男、東村禎三、内藤進義、田中寿雄
    • 受賞理由:無人化システム(駅務合理化システム)の開発
  • 土光敏夫、本間勉、窪田亮明
    • 受賞理由:新聞ファックスの開発
  • 土光敏夫、吉山博吉、伊藤糾次、滋賀弘一郎、難波進、大野稔
    • 受賞理由:イオン注入法による半導体素子の開発
  • 山下勇、菊井敬三、野口忠男、岡田首
    • 受賞理由:バージインテグレータの開発
  • 吉山博吉、川崎淳、藤本好司、佐野太一郎
    • 受賞理由:文字認識技術の開発と実用化
  • 大嶽孝夫、西口高清、村山洋一、山口聖一、大田光思
    • 受賞理由:高周波励起方式イオン化めっき技術
  • 吉山博吉、原田達男、喜多敏昭、森山茂夫
    • 受賞理由:収差補正凹面回折格子の開発と実用化
  • 三田勝茂、竹本一八男、増田美智雄、藤田努
    • 受賞理由:家庭用単板半導体カラーカメラの開発
  • 関本忠弘、黒田隆二、北爪進
    • 受賞理由:高信頼度衛星塔載通信機器の開発・実用化
  • 金井務森欣司中西宏明、増田崇雄
    • 受賞理由:自律分散計算機制御システム
  • 金井務、小林二三幸、安斎昭夫
    • 受賞理由:超高速1モジュールプロセッサの開発
  • 西村泰三、白田理一郎、中根正義、舛岡富士雄
    • 受賞理由:大容量NAND型フラッシュメモリの開発とその応用分野の開拓
  • 野間口有松井充、山岸篤弘、時田俊雄
    • 受賞理由:第3世代携帯電話W-CDMA用国際標準暗号の技術開発と実用化
  • 岡村正、渡邊敏明、菊池義浩、中條健
    • 受賞理由:情報通信における動画像誤り耐性技術の開発・実用化
  • 清水康夫
    • 受賞理由:電動式パワーステアリングの開発と普及・市場拡大
  • 濱辺孝二郎、吉田尚正
    • 受賞理由:移動通信システムの送信電力制御技術
  • 門田道雄、中尾武志、西山健次
    • 受賞理由:平坦化SiO2膜/Cu電極/基板構造小型弾性表面波デュプレクサ
  • 宗岡正二、宇野智裕、山田隆
    • 受賞理由:LSI用新型高機能銅ボンディングワイヤの開発
  • 中嶋成博、野口仁、斉藤真二、萬代俊博
    • 受賞理由:バリウムフェライト磁性体を用いた大容量データテープの開発と量産化
  • 豊田章男、能登博則、高山干城、近藤政彰
    • 受賞理由:トヨタフューエルセルシステムTFCSの開発
  • 倉井敏磨、加藤宣之、西村喜男、福島隆正
    • 受賞理由:高屈折率・低複屈折特殊ポリカーボネート樹脂の開発

市村学術賞

大学ならびに研究機関で行われた研究のうち、学術分野の進展に貢献し、実用化の可能性のある研究に功績のあった技術研究者またはグループに授与する。

市村学術賞
賞の種類 件数 副賞
特別賞 ※ --- 賞金(2000万円)、記念碑
功績賞 原則2件 賞金(500万円)、記念碑
貢献賞 原則5件 賞金(300万円)、記念碑

※特筆に値するものに限る。 受賞候補は所属機関長(総長・学長、研究科長、理事長、研究所長等)の推薦により受け付けられる。 過去に奨励賞(現功績賞)、アイデア賞(現貢献賞)も存在した。

特別賞受賞者
  • 青柳克信、原民夫
    • 受賞理由:新しいビームプロセス技術とビーム源の開発に関する研究
  • 坂村健
    • 受賞理由:リアルタイム性に優れた基盤ソフトウエアの研究・開発
  • 香取秀俊
    • 受賞理由:光格子時計の提案・実証による新たな原子時計手法の確立

沿革

  • 1968年12月12日 財団法人新技術開発事業団の設立が認可される。
  • 1968年12月16日 市村清逝去。この後、遺産が財団に寄贈される。
  • 1969年 第1回市村賞。
  • 1976年 第8回市村賞より授与対象が産業の部と学術の部に分けられる。
  • 1990年 第22回市村賞より産業の部、学術の部をそれぞれ「市村産業賞」「市村学術賞」とする。

脚注

  1. ^ 2013年8月時点の情報による。

外部リンク