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'''洗浄'''(せんじょう)とは、[[水]]や[[洗剤]]などの[[洗浄液]]を用いて汚れを取り除く行為。
'''洗浄'''(せんじょう)とは、[[水]]や[[洗剤]]などの[[洗浄液]]を用いて汚れを取り除く行為。


[[化学実験]]に用いる[[ガラス器具]]は、普通[[クレンザー]]を付けてブラシでこすり洗浄する。汚れがひどい場合には、ドライアイス洗浄機や、[[超音波洗浄機]]、[[水酸化ナトリウム]]か[[水酸化カリウム]]を[[イソプロピルアルコール]]に溶かしたアルカリバスを用いる。昔は[[クロム酸混液]]を使うこともあったが、毒性が高いため現在では用いられない。汚れが完全に落ちた事は、ガラス表面が水をはじかなくなる事で確認できる。
[[化学実験]]に用いる[[ガラス器具]]は、普通[[クレンザー]]を付けてブラシでこすり洗浄する。汚れがひどい場合には、ドライアイス洗浄機や、[[超音波洗浄機]]、[[水酸化ナトリウム]]か[[水酸化カリウム]]を[[イソプロピルアルコール]]に溶かしたアルカリバスを用いる。昔は[[クロム酸酸化#クロム酸混液|クロム酸混液]]を使うこともあったが、使用する[[二クロム酸カリウム]]や[[二クロム酸ナトリウム]]が六価クロムであり、環境への負荷が高いため廃液処理などの問題から現在ではほとんど用いられない。汚れが完全に落ちた事は、ガラス表面が水をはじかなくなる事で確認できる。


[[半導体]]部品を生産する上で[[シリコンウェハー]]の表面を洗浄する際に以前は[[フロン]]が洗浄液として使用されていたが、フロンは[[オゾン層]]を破壊する原因とされたため以来[[純水]]が使用されるようになった。
[[半導体]]部品を生産する上で[[シリコンウェハー]]の表面を洗浄する際に以前は[[フロン]]が洗浄液として使用されていたが、フロンは[[オゾン層]]を破壊する原因とされたため以来[[純水]]が使用されるようになった。

2011年5月4日 (水) 15:27時点における版

洗浄(せんじょう)とは、洗剤などの洗浄液を用いて汚れを取り除く行為。

化学実験に用いるガラス器具は、普通クレンザーを付けてブラシでこすり洗浄する。汚れがひどい場合には、ドライアイス洗浄機や、超音波洗浄機水酸化ナトリウム水酸化カリウムイソプロピルアルコールに溶かしたアルカリバスを用いる。昔はクロム酸混液を使うこともあったが、使用する二クロム酸カリウム二クロム酸ナトリウムが六価クロムであり、環境への負荷が高いため廃液処理などの問題から現在ではほとんど用いられない。汚れが完全に落ちた事は、ガラス表面が水をはじかなくなる事で確認できる。

半導体部品を生産する上でシリコンウェハーの表面を洗浄する際に以前はフロンが洗浄液として使用されていたが、フロンはオゾン層を破壊する原因とされたため以来純水が使用されるようになった。

工業界の洗浄においては、ドライアイスペレットを使用したドライアイス洗浄が廃液を出さない洗浄方法として、環境的にも注目されてきている。特に自動車産業を中心とした油の洗浄や、塗料の洗浄、プラスチック成型金型・ゴム成型金型などの洗浄にも多く使用されている。

食器日用品の洗浄にはスポンジブラシたわしが便利である。

用字

元の用字は洗滌で、「せんでき」と読むのが正しいが、つくりの「條」(条)に引きずられて「せんじょう」という慣用読みも定着していた。当用漢字に「滌」が入れられなかったことから、「じょう」と同音で意味が近い「浄」で書き替えられた。

関連項目